鄭州立佳低壓真空等離子噴涂系統(tǒng)基于成熟的真空等離子噴涂技術(shù)，結(jié)合創(chuàng)新的混合工藝設(shè)計(jì)，致力于生產(chǎn)高性能、高可靠性的功能性涂層。該系統(tǒng)融合了低壓環(huán)境與高能等離子體優(yōu)勢(shì)，可滿足航空航天、能源裝備、醫(yī)療器件等高端領(lǐng)域?qū)ν繉拥膰?yán)苛需求。
一、系統(tǒng)組成：

二、系統(tǒng)核心特性

(1)  低壓噴涂環(huán)境：腔室工作壓力范圍寬泛（0.5毫巴至300毫巴），適應(yīng)多種材料工藝需求。
(2)  高能等離子體輸出：等離子體功率可達(dá)150kW，提供穩(wěn)定且高焓值的射流，確保粒子動(dòng)能充分釋放。
(3)  智能化運(yùn)動(dòng)控制：采用六軸數(shù)控機(jī)械手與精密夾具系統(tǒng)，支持復(fù)雜曲面零件的均勻噴涂，承載重量可達(dá)60kg。
(4)  模塊化真空系統(tǒng)：專為低壓高流量氣體設(shè)計(jì)，配備快速抽空與循環(huán)冷卻功能，提升工藝效率。

四、涂層工藝類型

(1)  PS-PVD（等離子噴涂-物理氣相沉積）：通過氣化原料粉末，沉積形成柱狀晶結(jié)構(gòu)，適用于熱障涂層（100-300微米），防高溫性能優(yōu)異。
(2)  PS-CVD（等離子噴涂-化學(xué)氣相沉積）結(jié)合氣態(tài)前驅(qū)體與等離子體能量，以高沉積速率生成類CVD薄膜（<10微米），兼具高純度與均勻性。
(3)  PS-TF（等離子噴涂-薄膜技術(shù)）優(yōu)化射流速度與熱焓參數(shù)，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)致密涂層，適用于精密器件表面強(qiáng)化。

五、應(yīng)用領(lǐng)域

(1)  航空航天：渦輪葉片熱障涂層、發(fā)動(dòng)機(jī)部件防腐蝕層。
(2)  能源裝備：燃料電池雙極板導(dǎo)電涂層、核反應(yīng)堆部件防護(hù)層。
(3)  醫(yī)療植入：人工關(guān)節(jié)防磨涂層、生物相容性表面改性。
(4)  工業(yè)精密件：模具表面強(qiáng)化、半導(dǎo)體設(shè)備抗磨損涂層。

六、噴涂工藝的基本概念和工作流程

(1)  零件裝夾準(zhǔn)備：將需涂裝的零件裝入刺夾具。
(2)  真空環(huán)境營(yíng)造：關(guān)閉傳送室門，抽真空至初始真空度。
(3)  惰性氣體回填：達(dá)初始真空后，充入高純氬氣至工作壓力。
(4)  表面處理：進(jìn)行零件的 T/A 清洗和涂層沉積。
(5)  冷卻與壓力恢復(fù)：零件降溫，回填傳送室至大氣壓力。
(6)  零件卸載完成：壓力正常后，手動(dòng)或用裝載機(jī)卸下零件。

六、系統(tǒng)配置選項(xiàng)

(1)  裝載模式：半自動(dòng)或全自動(dòng)工件裝載，適配批量生產(chǎn)與定制化需求。
(2)  過程監(jiān)控：集成在線光譜儀與熱成像儀，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)涂層質(zhì)量與工藝穩(wěn)定性。
(3)  擴(kuò)展功能：可選配預(yù)熱腔室、多軸聯(lián)動(dòng)機(jī)械手及定制化噴涂槍頭。